光學裝置、MEMS用Dry Etching System_NLD-5700

Etching裝置

光學裝置、MEMS用乾式蝕刻設備NLD-5700,是搭載了「磁氣中性線Plasma (NLD- Neutral Loop Discharge)」裝置的量產用設備。ULVAC獨創的NLD技術,可以實現低壓、低電子溫度、高密度的Plasma源。

特點

  • 在無塵室中作業,可擴展為雙腔體(可選擇:NLD、有磁場ICP、CCP及Ashing Room)。

  • NLD為時間空間可控的Plasma,因此Dry Cleaning更加容易。

  • 實現簡單的腔體維護保養。

  • 提供從mask蝕刻到石英/玻璃蝕刻的製程方案。

  • 專門的半導體技術研究所支援提供萬全的製程Support體制。

用途

  • 光學Device (繞射光柵、變調器、光導波路、光Switch等)、凹凸型顯微鏡
  • 流體經路(μ-TAS)、光結晶

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* 此為公式計算理論值,僅供參考。
(bar)
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公斤力/米2(kgf/m2)
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* 此為公式計算理論值,僅供參考。
時間 (T)
=
min
公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 排氣速度 (S)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa
排氣速度 (S)
=
L/min
公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 時間 (T)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa