Multi-Chamber Sputtering System Model:SME-200(多腔體式濺鍍系統SME-200)

Load-lock式Sputtering装置

為多Chamber式濺鍍系統,可搭載複數個Process Chamber(最多200E*3、200J*5或200*7)

特點

  • 最大可對應基板尺寸為直徑200mm。

  • Process Chamber可以多樣化Module進行搭配。

  • 電介質用Module。

  • 高溫成膜Module。

  • 精密分布Module。
  • 蝕刻用Module。

用途

  • 電子零件

  • MEMS

  • Power Device

  • LED

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* 此為公式計算理論值,僅供參考。
巴 (bar)
千帕(kPa)
百帕(hPa)
毫巴(mbar)
帕斯卡(Pa = N/m2)
標准大氣壓(atm)
毫米汞柱(托)(mm Hg = Torr)
磅力/英尺2(lbf/ft2)
磅力/英寸2(lbf/in2 = PSI)
英吋汞柱(in Hg)
公斤力/厘米2(kgf/cm2)
公斤力/米2(kgf/m2)
毫米水柱(mmH2O)
* 此為公式計算理論值,僅供參考。
時間 (T)
=
min
公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 排氣速度 (S)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa
排氣速度 (S)
=
L/min
公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 時間 (T)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa