光學膜用濺鍍設備 Model:ULDiS

光學膜用濺鍍設備

ULDiS用於光學膜形成之濺鍍鍍膜設備,以MetaMode技術進化為Digital式濺鍍,以實現更高品質之光學膜。 與美國JDS Uniphase簽訂許可協議。 簽訂許可協議後,JDS Uniphase將銷售JDS Uniphase專利的Metamode Spatter,適用於所有光學應用。

特點

  • 能夠形成光學特性優異的薄膜。

  • 可以低溫成膜。

  • 雙陰極抑制異常放電。

  • 可以實現膜厚再現性良好的膜厚。

  • 提供低損壞陰極等豐富的選件。
  • 大尺寸對應。
  • 低Particle實現。

用途

  • 相機等的紅外截止濾光片

  • 投影儀等的二向色濾光片

  • DVD的相位鏡

  • AR等其他光學薄膜

  • 車載面板AR鍍膜

  • BPF
  • DWDM

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* 此為公式計算理論值,僅供參考。
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* 此為公式計算理論值,僅供參考。
時間 (T)
=
min
公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 排氣速度 (S)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa
排氣速度 (S)
=
L/min
公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 時間 (T)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa