平面式Sputter鍍膜Inline設備 Model:SCH

平面式Sputter鍍膜Inline設備

Model:SCH是平面式Inline Sputter設備,用於沉積透明導電膜和金屬膜。 SCH可對應各種鍍膜製程,例如太陽能電池生產線上的背面電極膜和絕緣膜。

特點

  • 可實現大量量產。

  • 可對應大型基板、多種類基板。
  • 採用高鍍率&高效能陰極。
  • 可對應多種鍍膜方式(DEPO UP/DOWN、AC/DC/RF Sputter)。
  • 容易進行設備維護保養。

用途

  • 太陽能電池用透明導電膜、背面電極膜、前導膜、緩衝膜

型號

SPW-030 SPW-060 SPW-165 C1 SPW-165 C2
Target Material ITO, Nb2O5, SiO2, Cu and Metal
Web Width Max300mm Max750mm Max1600mm
Web Thickness(μm) 25 to 200
Web Material PET, PI, PC, COP and Others
W/UW Max Diameter φ300mm φ400mm /φ700mm φ900mm
Winding Speed(m/min) 0.5 to 5.0 0.1 to 10 0.5 to 10
Cathode Structure External External / Internal Internal
Number of Cathode 4sets 8sets 16sets
4Pair 8Pair
Power Supply DC or AC
Numbar of Main Roller 1set 2sets
MR Temp -5 to 180ºC -20 to 80ºC -20 to 100ºC
-10 to 180ºC
Option Bombard system, Ion Gun and Others


攜手客戶 共創未來

優貝克“技術發展中心”(Tech Development Center)以獨創性設備和自主核心技術,以嶄新的商業模式為客戶開發新製程以及解決現有製程問題。

聯絡我們
* 此為公式計算理論值,僅供參考。
(bar)
千帕(kPa)
百帕(hPa)
毫巴(mbar)
帕斯卡(Pa = N/m2)
標准大氣壓(atm)
毫米汞柱(托)(mm Hg = Torr)
磅力/英尺2(lbf/ft2)
磅力/英寸2(lbf/in2 = PSI)
英吋汞柱(in Hg)
公斤力/厘米2(kgf/cm2)
公斤力/米2(kgf/m2)
毫米水柱(mmH2O)
* 此為公式計算理論值,僅供參考。
時間 (T)
=
min
公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 排氣速度 (S)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa
排氣速度 (S)
=
L/min
公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 時間 (T)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa