Model:APD

Model:APD

是利用脈衝真空電弧放電的新型奈米粒子形成裝置。 脈衝真空電弧蒸發是以簡單的工藝產生金屬離子,形成極薄膜和奈米粒子的唯一方法。 在微粒子的形成等方面,可以獲得其他蒸發法不能獲得的效果。

特點

  • APD-P
    可對用奈米粒子

  • APD-S
    可控制從nm級的膜厚到μm級的膜厚的脈沖數,可以容易地控制膜厚。

用途

  • APD-P(用於在粉末上加載納米顆粒)
    使用奈米粒的燃料電池催化劑、排氣催化劑、光觸媒
    VOC分散催化劑、碳奈米管催化劑等離子

  • APD-S(基板成膜用)
    金屬薄膜(磁性等離子保護膜)

規格

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    * 此為公式計算理論值,僅供參考。
    (bar)
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    公斤力/米2(kgf/m2)
    毫米水柱(mmH2O)
    * 此為公式計算理論值,僅供參考。
    時間 (T)
    =
    min
    公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
    * 容積 (V)
    L
    * 排氣速度 (S)
    L/min
    * 初期壓力 (P1)
    Pa
    * 最終壓力 (P2)
    Pa
    排氣速度 (S)
    =
    L/min
    公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
    * 容積 (V)
    L
    * 時間 (T)
    L/min
    * 初期壓力 (P1)
    Pa
    * 最終壓力 (P2)
    Pa