HPS-1000N-G100

HPS-1000N-G100

ULVAC多年的技術積累和實際成果、具備穩定的回路和高性能的EB電源。 配合EB槍控制器EGC-10GS使用、能對應光學薄膜和金屬薄膜用EB槍。

特點

  • 無需冷卻水
    強制空冷系統,不需要冷卻水

  • 可靠性高
    作為設備製造商經驗積累的成果

  • 簡易的操作性
    操作面板使用液晶螢幕,操作性高

  • 掃描波形變化
    可以在操作螢幕上創建各種光束掃描形式

  • 高速電弧中斷功能
    通過高速電弧中斷最大限度地減少成膜率

  • 低水平電弧控制功能(光學應用可選)
    控制光學應用中所產生的微小電弧以實現穩定的成膜

用途

  • 金屬膜用真空沉積

規格

    說明影片

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    * 此為公式計算理論值,僅供參考。
    (bar)
    千帕(kPa)
    百帕(hPa)
    毫巴(mbar)
    帕斯卡(Pa = N/m2)
    標准大氣壓(atm)
    毫米汞柱(托)(mm Hg = Torr)
    磅力/英尺2(lbf/ft2)
    磅力/英寸2(lbf/in2 = PSI)
    英吋汞柱(in Hg)
    公斤力/厘米2(kgf/cm2)
    公斤力/米2(kgf/m2)
    毫米水柱(mmH2O)
    * 此為公式計算理論值,僅供參考。
    時間 (T)
    =
    min
    公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
    * 容積 (V)
    L
    * 排氣速度 (S)
    L/min
    * 初期壓力 (P1)
    Pa
    * 最終壓力 (P2)
    Pa
    排氣速度 (S)
    =
    L/min
    公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
    * 容積 (V)
    L
    * 時間 (T)
    L/min
    * 初期壓力 (P1)
    Pa
    * 最終壓力 (P2)
    Pa