捲取式真空蒸鍍設備 Model:EW

捲取式真空蒸鍍設備

Model EW係屬真空蒸鍍設備,可在連續在捲繞的塑料薄膜,紙張,金屬箔等基材上同時沉積金屬和氧化物。 我們提供各種型號,從小型實驗機到批量生產設備,可針對包裝材料,電容器,磁帶和其他應用等各種用途進行對應。

特點

  • 基材搬送採用最新控制技術,使對應之各種材料、尺寸能在安定的狀態下卷繞進行。。

  • 可以根據蒸鍍的目的選擇最佳的蒸發源(感應加熱法,電阻加熱法,EB加熱法)。。

  • 提供各種前處理/後處理機制以優化製程條件。

  • 配置在線測量的透射型薄膜厚度監測儀,渦流型薄膜厚度監測儀,電阻值監測儀等。

用途

  • 包裝材、透明隔絕膜、金銀絲

  • 電容器

  • 磁帶

  • 光學膜

規格

攜手客戶 共創未來

優貝克“技術發展中心”(Tech Development Center)以獨創性設備和自主核心技術,以嶄新的商業模式為客戶開發新製程以及解決現有製程問題。

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* 此為公式計算理論值,僅供參考。
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公斤力/厘米2(kgf/cm2)
公斤力/米2(kgf/m2)
毫米水柱(mmH2O)
* 此為公式計算理論值,僅供參考。
時間 (T)
=
min
公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 排氣速度 (S)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa
排氣速度 (S)
=
L/min
公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
* 容積 (V)
L
* 時間 (T)
L/min
* 初期壓力 (P1)
Pa
* 最終壓力 (P2)
Pa