Model:QHC / VHC

Model:QHC / VHC

用於從太陽能電池到化合物半導體等的工藝開發 Model:QHC是組合了紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器,更加緊湊的裝備了石英熱處理腔體的高速加熱與高速冷卻設備。 在個人電腦上能進行加熱操作與簡單數據管理

特點

  • 從高速加熱到低速加熱,各種條件設定

  • 多步循環加熱

  • 通過氣體冷卻機構進行高速氣體淬火和冷卻控制

  • 通過電腦可輕鬆管理數據

用途

  • 太陽能電池基板的熱處理

  • 氫環境下的熱處理

  • 各種材料的基礎研究用環境退火・熱處理模擬器

  • 氣淬熱處理

  • 熱循環測試、熱沖擊測試

  • 半導體材料的燒制和退火條件的檢測

  • 2英寸晶圓研究用退火

  • 陶瓷控制環境下的熱處理

規格

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    * 此為公式計算理論值,僅供參考。
    (bar)
    千帕(kPa)
    百帕(hPa)
    毫巴(mbar)
    帕斯卡(Pa = N/m2)
    標准大氣壓(atm)
    毫米汞柱(托)(mm Hg = Torr)
    磅力/英尺2(lbf/ft2)
    磅力/英寸2(lbf/in2 = PSI)
    英吋汞柱(in Hg)
    公斤力/厘米2(kgf/cm2)
    公斤力/米2(kgf/m2)
    毫米水柱(mmH2O)
    * 此為公式計算理論值,僅供參考。
    時間 (T)
    =
    min
    公式 | t = V/S*2.303log(P1/P2)
    * 容積 (V)
    L
    * 排氣速度 (S)
    L/min
    * 初期壓力 (P1)
    Pa
    * 最終壓力 (P2)
    Pa
    排氣速度 (S)
    =
    L/min
    公式 | s = V/t*2.303log(P1/P2)
    * 容積 (V)
    L
    * 時間 (T)
    L/min
    * 初期壓力 (P1)
    Pa
    * 最終壓力 (P2)
    Pa