MILA-5050

特點

• 可以熱處理最大W50mm × L50mm尺寸的樣品

• 最高使用溫度為1200°C

• 桌面型、加熱爐、腔室，溫度控制器一體化

• Cold Wal結構l可以快速加熱/冷卻和清潔加熱

• 通過連接有USB連接在電腦上，可以輕松輸入溫度程式

• 加熱時的溫度數據可以顯示在計算機屏幕上（可以保存為文本文件）

用途

• Si晶圓、化合物晶圓的高速加熱

• 光CVD基板加熱等電子材料高速加熱

• 玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理

• 熱循環測試

• 金屬材料的退火

• 塗膜的耐熱性評估

• 有機材料、樹脂類的加熱、乾燥

規格表

測量數據

@ 500℃、Δt = 3.2℃
A 800℃、Δt = 0.6℃
B 1000℃、Δt = 4.2℃
C 1200℃、Δt = 2.6℃

樣品組裝（測量 2 英寸樣品時）

SiC 塗層碳基座和石英樣品架是可選部件（上圖）。

選項

• SiC塗層碳基座

• 真空排氣系統（RP、DRY、TMP等）

• 氣體流量單位（轉子流量計）

• 冷卻水流量開關

• 止回閥（安全閥）

• 電源線、冷卻水管

• 冷卻水循環器

• 手持式點焊機 (HS-9000)

• 手持式弧焊機 (HA-1H)C