Load-lock式濺鍍設備

金屬粒子濺鍍過程與反應過程分離的Digital濺鍍方式，沉積速率是普通反應濺鍍成膜的5倍。

可對應大尺寸以及曲面車用面板(Max 1800mm)，並可實現不開腔情況。

搭載AF真空蒸發源，AF膜與AR膜真空無間斷銜接。

低溫成膜，膜質緻密並無缺陷：膜層均勻性：1%以內，AR 膜硬度9H以上。