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研究開發用ALD裝置 ALD-S
研究開發用ALD裝置 ALD-S
è 研究開發用ALD裝置
ALD-S
規格
Model
ALD-S
最大基板Size
8 inch (ψ200 mm)
Work加熱
250℃
對應膜種
Al2O3
對應氣體
TMA/H2O
到達壓力
2.0 Pa
Pumping system
DRP
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