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研究開發用ALD裝置 ALD-S

è 研究開發用ALD裝置 ALD-S
規格
Model	ALD-S
最大基板Size	8 inch (ψ200 mm)
Work加熱	250℃
對應膜種	Al2O3
對應氣體	TMA/H2O
到達壓力	2.0 Pa
Pumping system	DRP

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