電漿耦合乾蝕刻設備_NE系列

簡介

LED用乾蝕刻量產設備

特點

1.可同時處理4吋基板 7片,6吋基板3片的高產量設備。

2.搭配ULVAC專利ISM機制和星狀電極,

3.均勻性和蝕刻率再現性佳為其一大優點。

用途

1.LED用GaN,sapphire,metal,ITO等各項乾蝕刻製程.