灰化設備Luminous NA 系列

簡介

Luminous NA series 係為對應從wafer製程到封裝製程的灰化設備。可以支援各種尺寸的wafer亦擁有寬廣的製程能力。

特點

1.可實現無損害的10E+16以上的光阻去除製程及聚合物去除製程。
2.製程腔體設計為可使用氟類氣體，微粒產生少，且可以對應從普通光阻去除、有機膜去除、氧化膜去除等寬廣的製程需求。
3.採用非常簡易的裝置構成，擁有卓越及便利的維修性能，且可實現低成本。
4.可擁有彈性的腔體構成(微波、RIE、微波+RIE)，也有多種傳送路徑可供選擇。
5.不同尺寸的wafer間轉換只需在參數中設定，可達到不同尺寸間的相互支援。

用途

1.10E+16以上的光阻去除與聚合物去除。
2.可使用CF4的wafer製程(electronic parts and LEDs) 
3. CSP與封裝製程
4.CCD濾光片製造製程