研究・開發用　赤外線燈管加熱裝置 RTP-6

均熱精度

RT～1000℃（高溫計可測範圍　400～1200℃）

被加熱物

標準6"*1片（4.5"為選配）

氣氛

標準　氣體、氣體流動中、大氣中 （真空也可選擇）

加熱方式

用拋物面反射紅外線爐来加熱上部的面

最大加熱速度

使用附帶SiC碳素導線 10℃／sec

未使用附帶SiC碳素導線時　50℃／sec（※用高溫計來控制。）

均熱精度

使用附帶SiC碳素導線       △t=10℃ 保持800℃ N₂ 氣體

未使用附带SiC碳素导线时   △t=10℃ 保持800℃ N2氣體

溫度傳感器

JIS  K型熱電偶（插入附帶SiC碳素導線方式）

控制方式

閉迴路控制

熱排氣

旋轉式鼓風機排氣方式

電源

AC200V 25.4KVA 3φ

安全項目

冷却水量，熱電偶斷線，漏電，異常停機，加熱室内過壓

特點:

1. 急速加熱
2. 金属加熱是由冷却水進行冷却，可進行急速冷却控制。
3. 加熱爐有9個獨立的溫度控制區，具有良好的溫度分布和再現性
4. 氣氛可控    (真空排气系統；選配)
5. 氣體可置換  (真空排氣系統；選配)
6. PC計算機進行數據管理。
7. 裝有石英防融板加化加熱室的安全性。

應用:

1.注入離子後的活性化退火。
2.氧化薄膜生成退火。
3.歐姆電極的燒結。
4.PZT和SBT等强誘導體薄膜的結晶化退火。
5.發光元件和半導體雷射基板的退火。