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研究・開發用 紅外線燈管加熱裝置 RTP-6熱分析.熱物性研究・開發用 紅外線燈管加熱裝置 RTP-6

研究・開發用 赤外線燈管加熱裝置 RTP-6

均熱精度

RT1000℃(高溫計可測範圍 4001200℃)

被加熱物

標準6"*1片(4.5"為選配)

氣氛

標準 氣體、氣體流動中、大氣中 (真空也可選擇)

加熱方式

用拋物面反射紅外線爐来加熱上部的面

最大加熱速度

使用附帶SiC碳素導線 10℃/sec

未使用附帶SiC碳素導線時 50℃/sec(※用高溫計來控制。)

均熱精度

使用附帶SiC碳素導線       t=10℃ 保持800 N2 氣體

未使用附带SiC碳素导线时   t=10℃ 保持800 N2氣體

溫度傳感器

JIS  K型熱電偶(插入附帶SiC碳素導線方式)

控制方式

閉迴路控制

熱排氣

旋轉式鼓風機排氣方式

電源

AC200V 25.4KVA 3φ

安全項目

冷却水量,熱電偶斷線,漏電,異常停機,加熱室内過壓

特點:

1. 急速加熱
2.
金属加熱是由冷却水進行冷却,可進行急速冷却控制。
3.
加熱爐有9個獨立的溫度控制區,具有良好的溫度分布和再現性
4.
氣氛可控    (真空排气系統;選配)
5.
氣體可置換  (真空排氣系統;選配)
6. PC
計算機進行數據管理。
7.
裝有石英防融板加化加熱室的安全性。

應用:

1.注入離子後的活性化退火。
2.
氧化薄膜生成退火。
3.
歐姆電極的燒結。
4.PZT
SBT等强誘導體薄膜的結晶化退火。
5.
發光元件和半導體雷射基板的退火。

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